O primer forno rotativo CVD industrial nacional pa materials d'anodo de silicio ha entrau oficialment en funcionamiento

Calendata de publicación:

2025-06-17

Fa bells días entró oficialment en servicio o primer forno rotativo contino de livel industrial d'o país ta o recubrimiento de materials d'ánodo de silicio por deposición quimica en fase de vapor, desembolicau por o instituto Sufeiyuan, de China National Building Material Group. Con una capacidat de producción de 1500 toneladas/anyo, ha superau con exito as dificultaz d'industrialización d'os fornos CVD ta materials d'ánodo de silicio en China. Ixo representa un gran abance en a producción industrial de materials d'ánodo ta a proxima cheneración de baterías de litio en China.

Seguntes a información disponible, l'ánodo de silicio obteniu y preparau con iste equipo, con una capacidat teorica de dica 4200mAh/g, representa un augmento de quasi 10 vegadas respecto a l'ánodo de grafito tradicional emplegau actualment en nuevas enerchías, con un maximo teorico de 372mAh/g. Ixo puede millorar muito a capacidat d'os vehíclos de nueva enerchía ta satisfer as necesidaz d'autonomía y de carga rapida.

Ista tecnolochía ha crebau o monopolio estranchero sobre os fornos CVD ta materials d'anodo basaus en silicio y ha superau o cuello de botella d'a industrialización d'o metodo CVD en China. Ha empentau de traza significativa o desembolique d'o sector d'os materials d'anodo basaus en silicio y ha reforzau o desembolique de calidat d'a cadena industrial d'os vehiclos d'enerchías nuevas. Aduyará eficazment a aconseguir os obchectivos de China de pico d'emisions y neutralidat de carbonio.

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